作家: アイ・ウェイ・ウェイ この写真は「クリエイティブ・コモンズ 表示・非営利・改変禁止2.1 日本」ライセンスでライセンスされています。

7月25日より、森美術館（六本木）で国内初の「クリエイティブ・コモンズライセンス（CCライセンス）」を適用した、写真撮影可能な企画展「アイ・ウェイウェイ展-何に因って？」が開催される。

日本では、美術館展示室内における撮影は、著作権保護や作品保護の観点から、多くの場合禁止されているが、同美術館は、インターネットの普及等によって注目されている著作権の諸問題に対しての活発な議論と、日本の知的財産や文化政策の発展に寄与したいという考えから、今回の出展作家であるアイ・ウェイウェイ（Ai Weiwei、艾未未）氏の承諾を得た上で、館内での写真撮影の許可を試験的に実施することになった。

クリエイティブ・コモンズは、創造的な作品に柔軟な著作権を定義するライセンスシステムを提供するNPO法人で、今回の展覧会では、フラッシュ禁止などの条件範囲内で作品撮影が可能となり、また営利目的で使用しないなどの条件をクリアすれば、撮影された作品画像をブログや写真共有サービスなどに利用できる。

また、アイ氏も中国当局からの監視で来日が懸念されていたが、26日に建築家の隈研吾氏やアート・バーゼル中国美術アドバイザーのフィリップ・ティナリ（Philip Tinari）氏を迎えて、8時間にわたる連続対談を開催する。

展覧会は11月8日まで。

関連サイト: 森美術館 / クリエイティブ・コモンズ・ジャパン
過去記事: 中国当局がアイ・ウェイウェイを監視